반도체 EDI 모듈

반도체 공장에서 사용되는 물을 전자급 초순수라고 합니다. 요구 사항은 제약 공장이나 발전소보다 높습니다. 이온이 없습니다. 입자가 없습니다. 세균이 없습니다. 유기물이 없습니다. 용존 산소가 없습니다. 저항률은 1,820만 옴-센티미터여야 합니다. 이 작업을 위해 반도체 EDI 모듈이 만들어졌습니다. 유량은 시간당 0~5톤입니다. 이 범위는 대부분의 반도체 생산 라인에 적합합니다. 하나의 칩 공장에서는 여러 모듈을 함께 사용하여 시간당 10, 20 또는 50톤을 생산할 수 있습니다.

컴퓨터 칩에는 수십억 개의 작은 트랜지스터가 있습니다. 단 하나의 이온이나 입자가 칩에 닿으면 단락이 발생하거나 연결이 끊어질 수 있습니다. 그 칩은 망가졌어. 따라서 웨이퍼 세척에 사용되는 물은 가능한 가장 순수한 물이어야 합니다. RO 물은 충분히 순수하지 않습니다. 두 번째 단계로 EDI가 필요합니다. 당사의 반도체 edi 모듈은 최고 등급의 이온 교환막과 수지를 사용합니다. 출력 품질이 안정적입니다. 위아래로 움직이지 않습니다. 우리는 많은 전자 공장에 서비스를 제공했습니다. 우리는 그들의 기준이 얼마나 높은지 알고 있습니다.

당사 제품의 출력 저항은 1,820만 옴-센티미터로 안정적입니다. TOC는 10억분의 1 미만일 수 있습니다. 입자는 밀리리터당 1개 미만일 수 있습니다. 이 수치는 반도체 산업 표준을 충족합니다. 모든 모듈은 공장에서 출고되기 전에 엄격한 테스트를 거칩니다. 전체 테스트 보고서를 받게 됩니다. 안심하고 모듈을 사용할 수 있습니다. 물이 더 필요합니까? 여러 모듈을 나란히 배치합니다. 각 모듈은 시간당 0~5톤을 처리합니다. 10개의 모듈은 시간당 0~50톤을 제공합니다. 공장이 성장함에 따라 쉽게 확장할 수 있습니다.